真空镀膜系统
星弧涂层采用国际领先的增强型磁控阴极弧与磁控溅射相结合的技术,使得靶材的离化率更高,离子能量更强,薄膜沉积时间更短。
整个镀膜工艺过程由计算机控制,自动化和标准化的生产流程确保操作简单精确。与其它工艺相比,其薄膜硬度更高,结合力更强,均匀度更好,因而具有更优良的整体性能。
性能参数
 列
参数 |
Jupiter系列PVD涂层设备 |
Diamant系列PV系D/IAPVD涂层设备 |
Seeyu系列PVD涂层设备 |
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真空室有效尺寸 |
f1500x1100mm |
f1300x1100mm |
f1200x900mm |
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抽气系统 |
机械泵+罗茨泵+扩散泵 |
机械泵+罗茨泵+扩散泵 |
机械泵+罗茨泵+分子泵 |
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靶 |
5个:磁控溅射-2个;磁控阴极弧-2个;离子源-1个 |
6个:磁控溅射-2个;PACVD源-4个 |
6个:磁控溅射-1个;过滤阴极弧-3个;离子源-2个 |
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工件转架 |
10~12个带自转行星转架,每个工件均可自转 |
12个带自转行星转架,每个工件均可自转 |
12个带自转行星转架,每个工件均可自转 |
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控制系统 |
PLC用于工艺过程控制;PC用于控制界面 |
PLC用于工艺过程控制;PC用于控制界面 |
PLC用于工艺过程控制;PC用于控制界面 |
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涂层 |
TiN,TiAlN, CrN, TiAlCrN等 |
TiN,TiAlN,DLC等 |
ta-C, DLC,DLC-Al等 |
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主要应用
领域 |
一般切削刀具,成型及冲压模具,耐磨零件。 |
耐磨零件和自润滑零件,高档工模具,特殊切削刀具。 |
高档工模具,耐磨零件和自润滑零件,特殊切削刀具。 | |